带着指南亲自与他们进行了秘密谈话，交由他们进行研究。
强调了工作的极端重要性和高度保密性，要求他们潜心钻研，打好基础。
随后，赵四以“盘古计划”特需的名义，协调调拨了极其有限的稀缺物资：
几片试验用高纯硅片、少量特种化学试剂、一台由退役显微镜改造的简易光刻装置、一台老式扩散炉。
设备简陋得可怜，却是从零到一的关键。
赵四分别在北京大学微电子实验室和上海冶金所一间僻静的小仓库里，主持了这两个“微电子学组”的启动会。
没有挂牌，没有记录，只有昏暗的灯光和几张年轻而严肃的面孔。
得益于系统赋予的详尽知识，赵四没有空谈概念，而是直接对照指南进入实质技术指导。
他用粉笔在黑板上勾勒出硅平面工艺的基本流程图。
详细讲解了清洗去离子水纯度要求、氧化炉温度均匀性控制、光刻胶涂覆厚度与转速关系、扩散源浓度与时间温度的匹配等关键工艺控制点。
包含了每个环节可能出现的典型失效模式和对策。
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